什么是真空镀膜设备

    真空镀膜设备是现在使用比较常见的设备之一,它主要是高真空度下进行的镀膜,它其中也有很多分类,真空离子蒸发，磁控溅射等!

    其主要思路是分红蒸腾和溅射两种，需求镀膜的被成为基片，镀的资料被成为靶材，基片与靶材同在真空腔中。蒸腾镀膜一般是加热靶材使外表组分以原子团或离子方式被蒸腾出来，而且沉降在基片外表，通过成膜进程(散点-岛状结构-迷走结构-层状成长)形成薄膜。

    如果是对于溅射类镀膜，可以简单理解为使用电子或高能激光轰击靶材，并使外表组分以原子团或离子方式被溅射出来，而且最终沉积在基片外表，经历成膜进程，最终形成薄膜。

    真空镀膜设备每完结200个镀膜程序以上，应清洁工作室一次，可以用烧碱(NaOH)饱和溶液反复真空镀膜设备擦洗真空室内壁,意图是使镀上去的膜料铝(AL)与NaOH发生反应，反应后膜层脱落，并释放出氢气，再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽阀内的尘垢。