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浅谈真空镀膜设备

    真空镀膜就是在真空中制备膜层,包含镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。尽管化学汽相堆积也选用减压、低压或等离子体等真空手法,但一般真空镀膜是指用物理的办法堆积薄膜。

    真空镀膜有3种方式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

    真空镀膜技术初现于20世纪30年代,四五十年代开端呈现工业使用,工业化大规模生产开端于20世纪80年代,在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的使用。

    真空镀膜的功用是多方面的,这也决定了其使用场合非常丰富。整体来说,真空镀膜的主要功用包含赋予被镀件外表高度金属光泽和镜面效果,在薄膜资料上使膜层具有出色的隔绝性能,提供优异的电磁屏蔽和导电效果。

 

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